リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

半導体業界で20年以上の製造実績

弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト（感光性材料）を開発しています。
単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した２層型の各層レジストも取り揃えております。

2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。
お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。