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T/Cウエハー 半導体製造装置用面内温度分布測定ツール 仕様書

株式会社ミヤビインターナショナル

T/Cウエハー 半導体製造装置用面内温度分布測定ツール 仕様書

ウエハの実温のリアルタイム測定!独自技術で読み込み温度の高い信頼性を実現。

正確なウエハ温度の把握は、品質向上・歩留まり改善のための重要な要素です。装置側の設定温度のみではなく、実際にウエハにかかる温度分布特性を知ることでプロセス温度設定・制御の簡略化、膜厚分布均一性の向上に貢献します。

当ツールでは、ウエハの実温のリアルタイム測定が可能です。独自技術により、温接点位置の固体差も低減し、読み込み温度の高い信頼性が得られます。