特長

高精度、高安定性を実現するセンサ

高精度、高安定性の測定を実現する為、ガードリング電極を設け、電界を垂直に落とすことができるのがcapaNCDTの特徴です。 センサヘッド交換時に校正が不要な為、メンテンナンスが簡単です。

センサは標準モデルだけで30種類以上あり、どんなアプリケーションにも対応できるよう準備しております。

高スペックかつパワフルなコントローラ

産業用に設計されたコントローラはノイズが少なく安定測定が可能です。フィルター前の生データの出力、またはユーザー任意のフィルターを多段に設定することも可能です。 各種パラメータ設定はウェブブラウザを通して、ダイレクトに変更が可能。

また、ライセンスなしで使用可能なソフトウェアを無償提供しております。直観的に操作、またコントローラをPCに接続頂くだけで設定ができる為ユーザーフレンドリーな設計です。

真空対応・極低温対応品

産業用仕様の為、信頼性が高く、また耐環境性に優れておりパワフルに使用できます。温度範囲は-270°から200°と幅広く、様々なアプリケーションに使用可能です。

また、真空対応モデルも標準品としてラインナップが御座います。様々な課題を抱えるお客様のご要望にお応えする為、カスタマイズ対応も可能です。必要に応じて、高精度、信号の安定性を損なわずにセンサ形状の変更等もが可能

インターチェンジャブルなシステム

Micro-Epsilon社のcapaNCDTはインターチェンジャブルなシステムとなっております。これにより、センサのタイプ交換や修理対応時にもお客様の現場で簡単に交換することができます。

用途例

レンズキャリアの傾き監視	Micro-Epsilon社の静電容量変位センサを使用して、露光装置内のレンズキャリアの傾きをナノメートルの精度で測定されています。 卓越した測定精度で複数のセンサが金属製キャリア上で測定を実施します。ノイズが低く、分解能が非常に優れているので、正確なウェーハ露光を可能にします。
ウェーハステージのポジショニング	ウェーハステージでの微細なポジショニングに静電容量式変位センサが使用されています。コンパクトなセンサが様々な箇所でステージ位置の測定をするので、微調整を行う際には特に役立ちます。 ガードリング設計により電磁界の影響を受けにくく、ナノメートル領域の分解能を実現してるだけでなく、 高い長期安定性とリニアリティを実現しています。また超真空領域用にも設計されているので、様々な場所で使用可能です。
リソグラフィー機械におけるナノメーター精度のポジショニング	ウェーハ上でコンポーネントを1つずつ露光する際、リソグラフィーのウェーハの位置調整にナノメーター精度のポジショニングが要求されます。 Micro-Epsilon社のcapaNCDTは非常に安定したシグナルを得ることができるため、多くの半導体製造装置メーカーにご採用頂いております。