金属イオン除去フィルター（Purifier）

金属イオン除去の重要性

半導体市場の飛躍的な成長に伴い、半導体の性能も進化しています。高性能な半導体を製造するためには、より金属イオンが低減された高純度な半導体用薬液が求められます。

イオン交換による金属イオン除去の弊害

イオン状で存在している金属は異物除去を目的としたフィルターでは除去できません。

これまで、半導体製造で使われるフォトリソグラフィー材料においては、化学工業的あるいはイオン交換による金属イオン除去が一般的でした。しかし、イオン交換時に発生する酸により、様々な問題が生じます。

リソグラフィー化学物質における酸の問題

1. エステル溶媒の加水分解
2. ケトン溶媒におけるアルドール縮合反応
3. 化学増幅型レジストの保護基の分解
4. オニウム塩の分解

薬液組成が変化してしまうと、その薬液を使用する半導体デバイスの性能は損なわれてしまいます。イオン交換を用いた金属イオン除去にはリスクがあるため、フォトケミカル用の新しい金属イオン除去機構の開発が必要になりました。

イオン交換に代わる金属イオン除去メカニズムとは

イオン交換に代わる新たな金属イオン除去の方法として、「キレート構造」による金属除去が注目されており、フィルターメーカー各社が開発を進めています。

キレート(chelate)という用語は、ギリシャ語でカニのはさみを意味するchelaに由来。金属イオンをカニのはさみで挟むようにして結合したものをキレート（錯体）と呼びます。キレート錯体は配位子が複数の配位座を持っているために、配位している物質から分離しにくい特徴があります。

現在、一般的にはこのキレート構造による金属イオン除去が、イオン交換に代わる方法として用いられています。

しかし、全ての金属に万能な金属イオン除去性能を発揮する製品を探すことは至難の業です。より高精度な金属イオン除去を目指すなら、ソリューションの引き出しは多い方が良いでしょう。

Cobetterの由来とミッション
Collaboration makes a better futureが会社名の由来です。 杓子定規な対応をするのではなく、お客様のニーズに真摯に耳を傾け、その問題解決のための協業（コラボレーション）を通じてお客様の検討課題に向き合い、問題解決に貢献することをミッションとしています。ニーズに応じて特別仕様のフィルター試作や簡易メタル除去テストなど、対話を通じて柔軟に対応いたします。

Cobetterは、各種精密ろ過膜、ナノファイバー、限外ろ過膜の研究開発により、世界中の半導体集積回路製造およびバイオ製薬産業に革新的なろ過・精製ソリューションを提供する世界最先端の技術を有するグローバル企業です。

中国は浙江省杭州に本社を置き、中国上海、日本、韓国、台湾、シンガポールの5箇所に子会社を置き、106カ国にわたる28000社以上の顧客にサービスを提供しております。日本コベッタは2019年2月に設立された現地法人の一つであります。

現在、グローバルの従業員は5000人規模に拡大。革新的なろ材開発を積極的に進め、数百に及ぶ特許を取得しております。

ろ材開発からフィルター生産、ハウジング及びろ過システム全体の設計・製造・分析検証までの一貫したサービス体制を有しています。多様な製品ラインナップと高い技術力で、お客様のニーズに迅速に対応し、卓越したろ過ソリューションを提供します。