logo_w
logo_w
  • 出展団体
  • カテゴリー
  • 記事
ナガセケムテックス株式会社
資料ダウンロードお問い合わせ
ポジ型単層レジストNPR9730T・2層プロセス用下層レジスト BLX-210
  1. TOP
  2. ナガセケムテックス株式会社

ポジ型単層レジストNPR9730T・2層プロセス用下層レジスト BLX-210

容易な形状コントロールと低温ベーク加工(剥離容易性)を実現

リフトオフプロセスに最適なフォトレジストに開発注力しています。

単層のポジタイプのレジストに加えて、細線化にも適した2層タイプのレジストも幅広く提供しており、2層タイプは従来の製品と比べ、低温ベークの実現とアンダーカット量の制御が容易であるという利点があります。

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

ナガセケムテックス株式会社

資料ダウンロード

目次

01

NAGASEが提供するフォトレジスト

20年以上のレジスト製造・開発

ナガセケムテックスは、長年にわたる豊富な経験とノウハウに裏打ちされた多様な要素技術を有しており、それらを市場のニーズに応じて組み合わせながら、製品開発を進めています。

安定した品質による製品開発は、これまで数多くのメーカー様のものづくりを支えており、国内外問わず高い評価をいただいております。

製品ラインナップ

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img03 (1)

NAGASEが提供するリフトオフプロセス用フォトレジストには、ポジ型単層レジストの「NPR 9700 series」と、2層プロセス用下層材「BLX series」の2シリーズがございます。

02

ポジ型単層レジスト NPR9730T

1 E Wktv Mp7ju B3j0 Qsop D 2024 4 9 13 39 27 Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img04

リフトオフプロセス用ポジ型レジスト

TopとBottomの線幅はプロセス条件で制御可能

露光波長域:g線~i線(ブロードバンド光にも対応可)

一般的な露光・現像条件で、逆テーパー形状の形成が可能

良好な剥離性

ご要望に応じた形状コントロールが可能

03

2層プロセス用下層レジスト BLX-210

1 E Wktv Mp7ju B3j0 Qsop D 2024 4 9 13 39 41 Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img05

比較的低温なベーク温度域でプロセス適用 (125℃~160℃ベーク)

良好な剥離性

単層リフトオフレジストより微細なパターン形成可能

塗布ムラが少なく平坦性に優れる

品質安定性(経時パーティクル発生量を抑制)

アンダーカット量のコントロールが容易

一般的なシンナーでEBRが可能

多くのレジストでインターミキシングなく2層パターニングが可能

2層パターン形状 プリベーク温度依存性

160℃まではプリベーク温度により、アンダーカット量をコントロールすることが可能です。

1 E Wktv Mp7ju B3j0 Qsop D 2024 4 9 13 39 41 Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img05 (2)

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img06

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img07

 
 

下層膜厚

0.2μm

プリベーク

吸着方式

露光量

300mJ/cm2

現像条件

2.38% TMAH, 23℃, 60s, Single Puddle

パターンサイズ

0.5μm トレンチ

2層パターン形状 現像時間依存性

70秒までは、現像時間によりアンダーカット量をコントロールすることが可能です。

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img08

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img09

 

下層膜厚:

0.2μm

プリベーク温度

145℃, プロキシミティ方式

露光量

300mJ/cm2

パターンサイズ

0.5μm トレンチ

04

NAGASEの提供価値

Nagasechemtex Liftoff Photoresists Img10

長年にわたるレジスト材料の研究と開発の経験を通じて、お客様の微細加工ニーズに対応するため、各種プロセスに最適なレジスト材料を提案しています。

特に、リフトオフプロセスにおいて理想的な特性を備えた製品を幅広く取り揃えております。

サービス内容(一例)

少ロット生産対応

研究開発レベルから量産規模まで製造量のご相談を承ります。

粘度調整

お客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能です。

工程の提案

長年の電子業界での量産経験をもとに、お客様のプロセスに合わせて組成開発やカスタマイズが可能です。

05

用途例

NPR9700/BLXシリーズは、様々な業界・分野で活用されています。

市場

・MEMS

・アナログ半導体

・電子部品

製品・部品

・高周波機器

・SAW/BAWフィルター

・パワーアンプ

・パワー半導体

・LED

・VCSEL

工法

・金属蒸着

・配線形成(PAD電極、 IDT電極など)

・高段差部の埋め込み

・多段層に一括配線形成

06

製造会社:ナガセケムテックス株式会社

1 E Wktv Mp7ju B3j0 Qsop D 2024 4 9 13 37 53 Nagasechemtex Logo2 V2

ナガセケムテックスは、合成技術・配合技術といった多彩な要素技術を強みとし、多くの分野で高いシェアを持つユニークな化学メーカーへと発展してきました。

製品の応用分野は、化学、エレクトロニクス、自動車・航空機と広範囲にわたっています。

エレクトロニクス分野では、日本のみならず中国・米国に生産拠点を持ち、ユーザーの現地生産の要求に応えています。

会社概要

 

会社名

ナガセケムテックス株式会社

Nagase ChemteX Corporation

本社所在地

〒550-8668 大阪府大阪市西区新町1-1-17

設立年月

1970年4月1日

従業員規模

501名以上

事業内容

エポキシ樹脂変性品などの高機能樹脂、フォトリソグラフィ用材料、エピクロルヒドリン誘導体、導電塗料、機能性色素の開発、製造

URL

企業WEBサイト
https://group.nagase.com/nagasechemtex/

 

リフトオフプロセス用フォトレジスト
特設サイト
https://group.nagase.com/nagasechemtex/photoresist/

07

販売会社:長瀬産業株式会社

Nagase Logo2

長瀬産業は、1832年京都で創業した化学系専門商社です。

世界的に優良な製品を日本国内で独占的に輸入販売する総代理店権を有し、そこで培った技術力・情報力・海外ネットワークを活かし、製造・加工、研究開発機能の強化を図りながら、事業構造の転換を果たしてきました。

創業200周年となる2032年、さらにその先に向けて、「人々が快適に暮らせる安心・安全で温もりある社会の実現」を追求してまいります。

会社概要

 

会社名

長瀬産業株式会社

Nagase & Co., Ltd.

東京本社

〒100-8142 東京都千代田区大手町二丁目6番4号常盤橋タワー

大阪本社

〒550-8668 大阪市西区新町一丁目1番17号

設立年月

大正6年(1917年)12月9日

従業員規模

975名(連結:7,528名)

事業内容

化学品、合成樹脂、電子材料、化粧品、健康食品等の輸出・輸入及び国内販売

URL

企業WEBサイト
https://www.nagase.co.jp/

08

よくある質問

Qサンプルは提供可能ですか?
A

はい、製品サンプルの提供は可能です。 詳細な工程条件を確認した上で、適した材料を紹介いたします。

Q推奨されるプロセス条件はなんですか?
A

お客様の工程条件に合わせて材料を選定しておりますので、個別にご相談をお受けいたします。

Q納期はどのくらいですか?
A

調整用サンプルはおよそ1か月以内で納品可能です。

Q室温で保管した場合、BLXはどれくらい安定した状態を保てますか?
A

1年間保管した後でも品質劣化は起こりません。 しかしながら、6か月を標準保管期間としております。

Qこれまでの採用状況はどのようになっていますか?
A

最近需要が急増している5G通信基地局用RF装置やスマートフォン用SAWフィルタの微細加工工程などで、国内外のお客様に採用されています。 また高い信頼性が求められる車載通信用センサー向け加工工程用にも実績があります。

QPEB(Post Exposure Bake)は必要ですか?
A

必要ありませんが、お客様の評価結果に応じてアドバイスをいたします。

Q必要な露光量はどのくらいですか?(NPR9700シリーズ)
A

感度調整は可能ですが、一例として膜厚1.2μmの際に約40mJ/cm2となります。 (お客様側の機器などによります。また、評価結果によっても対応は異なります。)

Q下地基板の表面処理は必要ですか?
A

使用する基板の状態によりますが、一般的には必要ございません。

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

半導体業界で20年以上の製造実績

弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト(感光性材料)を開発しています。 単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した2層型の各層レジストも取り揃えております。 2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。 お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。

資料ダウンロード

ポジ型単層レジストNPR9730T・2層プロセス用下層レジスト BLX-210についてのお問い合わせ

ナガセケムテックス株式会社

ナガセケムテックス株式会社担当より回答いたします。

お気軽にお問い合わせください。

お問い合わせ
リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

資料ダウンロード

ロゴ

デジタルプレゼンテーションプラットフォーム

カテゴリーを探す

  • 製造業DX・工場IoT
  • 半導体・電子部品
  • 環境・エネルギー・プラント
  • 設計・試作・シミュレーション
  • 計測・検査・分析
  • 空調設備
  • 工場設備・備品
  • 業務用厨房機器・調理器具
  • 外観検査・画像処理技術
  • 特許・知財・R&D
  • 材料・高機能素材
  • 協働ロボット・産業用ロボット
  • セールス・マーケティング
  • 物流ソリューション
  • レーザー・光学製品
  • 設備保全・点検DX
  • 生産管理・販売管理
  • 工場セキュリティ
  • 医療・介護・ヘルスケア
  • 働き方改革・テレワーク
  • 加工技術・加工機
  • 機械部品・要素技術
  • 実験・研究開発
  • 包装・容器・資材
  • 建設・建築DX
掲載相談
  • 運営会社
  • プライバシーポリシー
  • 利用規約
  • お問い合わせ
©2025 evort.,Inc All Rights Reserved.