CVD・エッチング工程用高性能ガス流量計

CVD・エッチング工程用高性能ガス流量計

半導体製造の薄膜形成やエッチングで使う気体を高精度に計測・制御

半導体製造におけるCVDやエッチング工程では、ウエハーの表面に特殊なガスを供給することで化学反応を起こします。どちらの手法も装置へ供給されるガスの量は厳密に決まっているため、精度の高い計測と制御が欠かせません。
本記事では、CVDやエッチングで使われる高精度の流量制御・流量計測機器、マスフローコントローラの役割と特徴を解説します。