特徴

【技術紹介】各基板sizeに応じた装置設計

液晶ディスプレイ用マザーガラスに応じた装置を設計

• ウェハー基板　200φ、300φ
• ガラス基板　～G10.5（2940㎜×3130㎜）

 

【技術紹介】光学シミュレーションを利用した最適照射提案

コンピュータシミュレーションによる照射器配置の最適化

• 照度（mW/cm²）　
• 光量（ｍJ/cm²）
• 均整度（％）

 

【技術紹介】光学フィルターを利用した波長制御

Band Pass Filter技術による波長の選択

• 必要波長の透過、不要波長のカット
• 低温キュアの実現
• UV硬化だけでなく、可視光硬化にも対応

 

【技術紹介】吸着バーによるマスク保持

UVを当てたくない箇所のマスキング技術

• 吸着Barによるマスク保持
• 大型基板でも短時間でのマスク交換
• マスクと液晶マザーガラスの位置決め機構

 

【技術紹介】照射照度安定化

シール剤等の硬化特性に合った照度・光量を継続した安定的照射

• 必要照度、光量を任意設定
• Feed Back センサーによりUV出力を検知
• 設定照度、光量への自動Feed Back

 

用途例

FPD貼り合せ工程用UV硬化装置（液晶ディスプレイ）	本装置はフラットパネルディスプレイ（FPD）の主力である液晶ディスプレイの貼り合せ工程で多く使用されています。
FPD貼り合せ工程用UV硬化装置（OLED、μLEDディスプレイ）	近年ディスプレイ業界において液晶ディスプレイに代わる新表示技術が開発されています。OLED、μLED等の新ディスプレイ製造工程においても弊社装置をご利用頂いております。