フラックス洗浄剤・除去剤
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薬液用パーティクル除去フィルター
日本コベッタ株式会社
半導体製造プロセスに不可欠な異物除去へ 様々なラインナップからアプローチ
Cobetterでは、業界最高峰のろ過パフォーマンスを誇るパーティクル除去フィルターを提供しています。孔径ラインナップはSub 1nm〜200umと幅広く、最先端のウエハープロセスからレガシーなプロセスへの適用、またCMPスラリー向け、高粘度アプリケーションにも最適なフィルターを取り揃えております。
Cobetterの製品バリエーションの多さと品質の高さ、安定供給、コスト面での安心感から、半導体デバイスメーカー／装置メーカー／半導体材料メーカーのお客様での適用が進んでいます。
このような方におすすめ
■ 薬液ろ過に下記のようなお悩みをお持ちの、半導体デバイスメーカー／装置メーカー／半導体材料メーカーの方
・高いろ過パフォーマンスを持つパーティクル除去フィルターを探している
・品質／コスト／納期 の面で安心できるパーティクル除去フィルターが欲しい
パーティクル除去フィルターとは？
半導体製造・分析技術の向上により、パーティクル除去ニーズも多様化
半導体市場の飛躍的な成長に伴い、半導体の性能も進化しています。高性能な半導体を製造するためには、様々な形態で存在するパーティクルを高効率に除去した、極めて高純度な半導体用薬液の使用が求められます。
高純度な半導体用薬液製造と高純度薬液を使用するウエハープロセスには、高いろ過パフォーマンスを実現するパーティクル除去フィルターが必要です。
パーティクル除去フィルターのパフォーマンスを決める要素
パーティクル除去フィルターのろ過パフォーマンスを高めるには、フィルターのメンブレン（膜）孔の微細化の技術が求められます。
一方で、孔径が小さいほど流量を確保しづらい傾向にあります。流量は生産性に直結するため、ろ過精度と流量のバランスが重要となり、表面改質やメンブレン製造における工夫による高流量の確保が重要です。
また、フィルター自体が発塵源となることも広く知られています。特に、フィルター取り付け時にはパーティクル・溶出物が発生しやすく、その量次第で製造工程のダウンタイムの延長を余儀なくされます。フィルタ取り付け時のダウンタイムを軽減するには、初期清浄度が高い、クリーンな材料・プロセスで生産されたフィルターを使用することが重要になります。
Cobetterのパーティクル除去ソリューション
Cobetterでは、業界最高峰のろ過パフォーマンスを誇るパーティクル除去フィルターを提供しています。孔径ラインナップはSub 1nm〜200umと幅広く、先端半導体の製造工程でも適用が進んでおります。
ろ過精度と流量を両立した高性能なメンブレン（膜）もCobetter独自の技術で開発。お客様の生産性向上に貢献できるよう、微細化技術と膜の表面改質技術で最適なろ過ソリューションをご提供いたします。
また、クリーンな環境・材料での製造に加えて、卓越した洗浄方法の開発と採用により、フィルターからの溶出レベルを低値に押さえるための工夫を製造プロセスに取り入れています。
Cobetterフィルターの多彩な製品ポートフォリオ
Cobetterでは、ウエハープロセスで使用されるパーティクル除去を目的とした様々なアプリケーションに対応するフィルターラインナップを取り揃えています。
コストダウンやろ過性能向上といったニーズに対して、従来品に替わるフィルターの提案が可能です。また、後工程や高粘度薬液に最適なフィルターについても独自に開発を進めております。
フィルター及びハウジングの種類
カードリッジタイプ、ディスポーザブルタイプ、POU フィルターをラインナップしており、用途に合わせた提案が可能です（フィルターサイズ・継ぎ手など選択可）。
カードリッジタイプ
ハウジングからの脱着が可能で、フィルターのみの交換が可能です。
ディスポーザブルタイプ
カードリッジとハウジングが一体型となったタイプで、主に危険な薬液を高温で使用するウエハー洗浄プロセスで多用されます。
Litho POU フィルター
塗布現像装置に用いるPOU（Point Of Use）フィルターで、レジストの他現像液・DIW用のワンタッチフィルターのラインナップを取り揃えています。
ハウジング材質は、PP / PFA / PVDFといった樹脂製や、SUS製ハウジングをラインナップ。お客様の要望に応じたライニング対応やマルチハウジングでの提供も可能です。
メンブレン（膜）の種類
半導体前工程のウェットプロセスで使用するPTFEフィルターをはじめ、リソグラフィープロセスで使用するUPEやNylonといったメンブレンのラインナップが充実。高除去率・高流量・極めて高い清浄度を実現する新開発のPolyimideも新たな選択肢として追加。
孔径や洗浄グレードの選択肢も豊富で、先端プロセスまでカバーできます。
PTFE（疎水性・親水性膜）
耐薬品性が高く、高温ろ過での使用も可能です。
- 用途
酸、アルカリ系薬液のろ過に幅広く適用可能
- 特徴
・高い耐薬品性
・表面特性（親水性）の調整が可能
・カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
・オールテフロンフィルターディスポタイプは形状・継ぎ手タイプの選択が可能
・金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
・Prewet品での供給が可能です（オプション）
Chemphobicシリーズ オールテフロンフィルター
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | PFA |
|---|---|
孔径 | 疎水性PTFE：5nm~ |
Chemrapidシリーズ オールテフロンフィルター
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | PFA |
|---|---|
孔径 | Non-dewetting PTFE: 2nm～ |
Chemvastシリーズ
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | HDPE |
|---|---|
孔径 | 疎水性PTFE：5nm~ |
Chemegaシリーズ
構成部材（サポート材・シェル） | PP |
|---|---|
孔径 | 疎水性PTFE：5nm~ |
UPE（超高分子量ポリエチレン）
レジストや半導体ケミカル品のろ過に適しています。
- 用途
フォトレジスト、溶剤、シンナー、有機レジスト剥離液
- 特徴
・高除粒子性能
・高い初期清浄度
・カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
・金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
・Prewet品での供給が可能です（オプション）
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | HDPEまたはPP |
|---|---|
孔径 | Sub 1nm未満~1.0um |
Nylon（Nylon66）
溶剤ベースのフォトケミカルのろ過に適しています。
- 用途
フォトリソグラフィーに用いられる、ほぼ全ての有機溶剤・光化学薬品
※フォトレジスト、反射防止膜（BARC）、光酸発生剤（PAG）など
- 特徴
・ほとんどのフォトケミカルに対する高い濡れ性
・アミド基による金属・パーティクルの吸着能
・カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
・金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | HDPEまたはPP |
|---|---|
孔径 | 1nm~0.2um |
HAPES（高非対称PES膜）
高非対称膜構造なので長寿命が期待できます。
- 用途
BOE、DHF、DIW、SC1、SC2
- 特徴
・親水性・疎水性膜（親水性膜は50nmまで選択可）
・半導体向けフィルターとして高い薬液耐性と耐熱性を有します
・1次側から2次側へと孔径が小さくなる緻密な高非対称膜構造
・非対称膜を採用することで捕捉を分散し、長寿命が期待できます
・カートリッジとディスポーザブルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
・金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
・Prewet品での供給が可能です（オプション）
構成部材（サポート材・シェル・ケージ） | HDPE |
|---|---|
孔径 | 1nm、2nm 、5nm 、10nm 、 |
Polyimide（ポリイミド膜）
新開発のポリイミド膜を採用。高除去率・高流量・極めて高い清浄度を実現します。
- 用途
・フォトケミカル材料や有機溶剤のろ過
・ポリイミドや後工程材料などの高粘度薬液
- 特徴
・独特なハニカム構造により、連通孔への衝突を通して高い除去率と高流量を実現
・ポリイミド膜に特化したオリジナル洗浄方法の採用による極めて高い初期清浄度
・均一な孔径分布により、高粘度ろ過におけるマイクロバブル発生を抑制
構成部材（サポート材・シェル・ケージなど） | HDPE |
|---|---|
孔径 | 1nm、2nm、0.2μm（0.2umは近日上梓予定） |
お客様による初期清浄度評価
ポリイミド膜を使用したフィルター取り付け後のパーティクル評価では、圧倒的な初期清浄度の高さに加えて、通液量の増加、経時的な変化においても高い清浄度を維持しています。
複数のユーザー様で得られたチャンピオンデータが本製品の高い清浄度を実証しています。
Cobetterの強み
Cobetterの製品バリエーションの多さと品質の高さ、安定供給、コスト面での安心感から、BCP対策として多くのフィルターを評価いただき、半導体デバイスメーカー／装置メーカー／半導体材料メーカーのお客様での適用が進んでいます。
豊富な製品バリエーションと高品質の担保
Cobetterでは、半導体製造プロセスで多用するフィルター種を製品群に網羅するとともに、Polyimideをはじめとした新しいメンブレンの採用など、更なるラインナップの拡充に尽力しています。
より優れたろ過パフォーマンスを実現するべく、自社独自のメンブレン（膜）の開発を推進。圧倒的な規模の研究開発センターを開設し、最新の分析機器を使用しての多くの研究開発や分析業務を行っています。
安定した製品供給が可能
半導体需要が高まるなか、新型コロナウイルス感染拡大や材料不足などの複合要因から、フィルター製品全般の納期遅延が業界で大問題になりました。未だ収束が見えない中、Cobetterは安定したより短いリードタイムでの製品提供が可能です。
Cobetterは他に類を見ない規模のフィルター製造工場を有しており、大規模な設備投資が進行中です。フィルター製品の更なる安定供給を約束することで、調達活動をサポートします。
コスト面での安心感
Cobetterは業界最高峰のろ過・精製技術を有しながら、コスト面においても、お客様からご評価をいただいています。フィルター導入・運用でのコストダウン要望に対して、最適なフィルターをご提案いたします。
「Made in Japan」のフィルター製造に向けた展望
昨今の政治情勢やBCP対策を鑑み、現在の中国、台湾工場でのフィルター製造に加えて、日本工場の稼働をプロジェクトとして推進中です。より高品質でコストメリットを出せるご提案が可能となります。
よくあるご質問
- パーティクル除去フィルター以外の製品ラインナップを教えてください。
- 半導体向けの薬液精製では、金属イオン除去フィルターの取り扱いもございます。
薬液用フィルターのみならず、ガスフィルターやガスのPurifier、ケミカルフィルターについてもラインナップを揃えており、ろ過全般についてのソリューションを提供しています。
ろ過に関するお悩みはお気軽にご相談ください。
会社概要
- Cobetterの由来とミッション
Collaboration makes a better futureが会社名の由来です。
杓子定規な対応をするのではなく、お客様のニーズに真摯に耳を傾け、その問題解決のための協業（コラボレーション）を通じてお客様の検討課題に向き合い、問題解決に貢献することをミッションとしています。ニーズに応じて特別仕様のフィルター試作や簡易メタル除去テストなど、対話を通じて柔軟に対応いたします。
Cobetterは、各種精密ろ過膜、ナノファイバー、限外ろ過膜の研究開発により、世界中の半導体集積回路製造およびバイオ製薬産業に革新的なろ過・精製ソリューションを提供する世界最先端の技術を有するグローバル企業です。
中国は浙江省杭州に本社を置き、中国上海、日本、韓国、台湾、シンガポールの5箇所に子会社を置き、106カ国にわたる28000社以上の顧客にサービスを提供しております。日本コベッタは2019年2月に設立された現地法人の一つであります。
現在、グローバルの従業員は5000人規模に拡大。革新的なろ材開発を積極的に進め、数百に及ぶ特許を取得しております。
ろ材開発からフィルター生産、ハウジング及びろ過システム全体の設計・製造・分析検証までの一貫したサービス体制を有しています。多様な製品ラインナップと高い技術力で、お客様のニーズに迅速に対応し、卓越したろ過ソリューションを提供します。
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