イオン注入装置とは?特徴や原理・新たな技術方法について解説

イオン注入装置とは?特徴や原理・新たな技術方法について解説

イオン注入装置は、イオン化させた個体に物質を注入して、その個体の特性を変化させるための装置です。半導体製造の現場で、デバイス特性を向上させるのに使用されます。

今回の記事では、イオン注入装置の特徴や関連用語、原理などについて解説します。