微細加工ファイバレーザ種光用 ピコ秒/ナノ秒/CW DFBレーザ

微細加工ファイバレーザ種光用 ピコ秒/ナノ秒/CW DFBレーザ
高信頼・高品質のファイバレーザ種光用DFBレーザ (波長:1024-1120nm、1180nm)
当社の1000nm帯DFBレーザは、豊富な波長かつ多彩なパルス幅の製品ラインナップが特長で、微細加工用レーザ、LiDAR、検査用光源など様々な用途の種光源に適しており、お客様のオンリーワン製品の創出に貢献いたします。

ファイバレーザ等の種光に使用されるDFBレーザは、パルスに裾引きやセカンドピークがあると、ファイバレーザのパルス品質に影響を及ぼします。微細加工用レーザのパルスに裾引きや波形の乱れが含まれている場合、加工対象に熱が残留してしまいシャープな加工形状が得られません。

当社の1000nm帯DFBレーザは、ナノ秒のパルス生成やGHz級の直接変調が可能ですが、さらに短い電気パルスを注入してゲインスイッチ動作させる事で外部変調器を用いることなく、ピコ秒でかつセカンドピークのない単峰性の短パルスを発生させることも可能です。
お客様の用途とご要望に対して、最適な波長、パルス幅、パルス波形のDFBレーザを提供いたします。

特徴

1024-1120nm, 1180nmの豊富な波長ラインナップと+/-1nmの波長精度

1000nm帯で発光する活性層には、850nm帯で発光するGaAsにIn(インジウム)を加えたInGaAsが用いられます。In組成を大きくするほど長波長での発光が得られますが、GaAs基板に対する結晶歪が大きくなるため、結晶欠陥の少ない活性層を得るには高い結晶成長技術が必要となります。当社は超高真空中で結晶成長するMBE法によって、1100nmを超える波長においても高信頼の活性層を実現しています。

当社のDFBレーザは、性能に対する要求が厳しい光通信用レーザ開発で培った半導体内部に回折格子を形成する技術と、それを埋め込む再成長技術によって実現したものです。そのDFBレーザは、回折格子の強い波長選択性によって単一周波数かつ10MHz以下(典型値)の狭線幅で発振します。

また、回折格子周期の精密制御によって波長精度+/-1nmでのご提供が可能です。ファイバレーザの代表的な波長である1030nm, 1053nm, 1064nm, 1080nmをはじめ100nmを超える広い波長範囲をカバーしており、本DFBレーザを種光源とした2倍波(緑)・3倍波(紫外)生成、波長多重による主発振器の高出力化など、様々な応用が可能となります。

1024-1120nm, 1180nmの豊富な波長ラインナップと+/-1nmの波長精度

単峰性の15ピコ秒パルスからナノ秒パルス、CWまでの幅広い加工用途に対応

当社は様々なパルス幅のニーズにお応えするDFBレーザを開発してきました。

①15ピコ秒パルスは、ゲインスイッチ動作の半導体レーザ製品として世界最速で、非熱加工用レーザなどの種光源に適しています。

②50ピコ秒パルスは、有機LED、フレキシブルプリント基板、半導体などの微細加工用レーザなどの種光源に適しています。

③ナノ秒パルスは、ガラス、太陽電池、プリント基板、シリコン、セラミックなどの微細加工用レーザなどの種光源に適しています。

④CWはファイバレーザの種光や波長多重による高出力化などにご使用いただけます。

加工用ファイバレーザの種光に使用されるDFBレーザは、パルスにノイズ成分(裾引きや波形の乱れ)が含まれていると、高出力化する際にパルスと一緒にノイズも増幅され、加工対象に熱が残留してしまいシャープな加工形状が得られません。
当社のゲインスイッチパルスは、パルスの裾引きやセカンドピークのない単峰性ですので、増幅後も綺麗なパルス形状が得られます。

また、DFBレーザは印加電流による直接変調が可能、かつ高速応答するため、シングルショットからMHzオーダーの高い繰り返し周波数までをカバーでき、バーストモードでも動作可能です。また、ナノ秒パルスではパルス毎にパルス幅やパルス強度を変えることも可能です。

単峰性の15ピコ秒パルスからナノ秒パルス、CWまでの幅広い加工用途に対応

パルス、CW駆動ドライバによるプラグアンドプレイ化

15ピコ秒パルス、50ピコ秒パルス、ナノ秒パルス、CW、それぞれの駆動条件に適したドライバボードをご用意しています。DCバイアス電流、パルス電流、パルス幅、繰り返し周波数、LD温度(すべてのバタフライパッケージにはペルチェが内蔵されています)の制御は付属の専用ソフトで可能ですので、ご購入後すぐにご使用いただけます。また、外部クロックとプログラミングを組み合わせれば、より自由なパルス駆動条件を設定でき、装置への組み込みも可能です。

パルス、CW駆動ドライバによるプラグアンドプレイ化

様々なご要望に柔軟に対応します

当社はお客様のオンリーワン製品の創出をサポートするため、様々なご要望に対応いたします。

  • 波長精度を厳しくしたい
  • 製造歩留まりを改善するため、専用ドライバを提供するので出荷検査に使ってほしい
  • 特定の駆動条件で出荷検査をしてほしい
  • バタフライパッケージのピン配置を変更したい
  • バタフライパッケージではなく、チップオンキャリア、TO-CANパッケージで販売してほしい
  • アイソレータを外してほしい
  • パルス駆動時のスペクトル幅を指定したい
  • ファイバの種類を変更したい
  • 50ピコ秒ではなく30ピコ秒のパルスが欲しい
  • 専用のレーザを開発してほしい

上記以外のご要望につきましても柔軟に対応いたしますので、お気軽にお問い合わせください。

用途例

微細加工用ファイバレーザの種光に最適なDFBレーザ

加工用ファイバレーザの種光に使用されるDFBレーザは、パルスにノイズ(裾引きや波形の乱れ)が含まれていると、高出力化する際にパルスと一緒にノイズも増幅され、加工対象に熱が残留してしまいシャープな加工形状が得られません。

当社のゲインスイッチパルスは、パルスの裾引きやセカンドピークのない単峰性ですので、増幅後も綺麗なパルス形状が得られます。

また、DFBレーザは印加電流による直接変調が可能かつ高速応答するため、シングルショットからMHzオーダーの高い繰り返し周波数までをカバーでき、バーストモードでも動作可能です。また、ナノ秒パルスではパルス毎にパルス幅やパルス強度を変えることも可能です。

微細加工用ファイバレーザの種光に最適なDFBレーザ

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