低温PVD・プラズマCVDコーティング「セルテス」 受託サービス

低温PVD・プラズマCVDコーティング「セルテス」 受託サービス
フランスのHEFグループが開発したプラズマブースタースパッタリングと新型プラズマ源による、低温且つ安定した密着力のコーティング
フランスのHEFグループが開発したプラズマブースタースパッタリングと新型プラズマ源による、低温且つ安定した密着力のコーティング

「セルテス」シリーズは、先進の真空プラズマ技術による低温PVD・プラズマCVDコーティングです。

多層構造のDLC(ダイヤモンドライクカーボン)をはじめ、ゴム・樹脂成型金型用で多数実績のあるCrxNy、300℃の低温で成膜できるTiNなど、豊富なラインナップから最適な膜種をお選び頂けます。

ゴム/樹脂成型、粉末成型、金属プレス成型に使用される精密金型、自動車・2輪用、産業/民生機器用、航空宇宙分野で使用される各種トライボ部品など、様々なご要求に最適なドライコーティングをご提案致します。

※セルテス CERTESSはHEFグループの開発技術で登録商標です。
※成膜メーカー:ナノコートティーエス社

特長

低温成膜で安定した密着力

200℃以下の低温処理が可能たなめ、SUJ鋼・SCM浸炭鋼・SKS鋼・アルミ合金等にも母材硬度の低下なくコーティングが可能です。 ※膜種によっては成膜温度300℃程度のものもあります。

低温成膜で安定した密着力

高精度コーティングが可能

半導体プロセスで実績のあるスパッタリング技術をベースに、すぐれた膜厚精度・膜厚再現性により、公差の厳しい精密部品・精密金型に適用可能です。

高精度コーティングが可能

ドロップレットが少なく、表面が平滑

アークイオンプレーティングのようなドロップレットが少なく、平滑な表面が得られるため、摺動部品で良好なトライボロジー特性が得られます。

ドロップレットが少なく、表面が平滑

用途例

凝着防止

飲料製缶分野

超硬製スピナーへセルテスDLCを成膜することで、アルミ凝着を防止。保守作業大幅軽減。

空調機器分野

鋼製拡管プラグにセルテスDLCを成膜することで、銅管拡管時の銅凝着を防止。Crメッキ比で保守作業軽減。

滑り性向上

実装機部品分野

電子部品実装機用シャフト(母材:SKS)にセルテスDLCを成膜することで、摺動相手材(鋼・Mg他)との滑り性向上、凝着防止効果。

理化学機器分野

理化学機器用フッ素ゴムOリングにセルテスDLCを成膜することで、Oリングの耐摩耗性、滑り性向上効果。

耐摩耗性

パワー半導体分野

シリカフィラー入りエポキシ樹脂成型用キャビティ、可動ピンにセルテスX(CrxNy)を成膜することで、フィラーによる摩耗に対する耐摩耗性向上。硬質Crメッキ比で長寿命化。

コネクター分野

ガラス繊維50%入りLCP成型用コアピンにセルテスX(CrxNy)を成膜することで、 ガラス繊維による摩耗に対する耐摩耗性向上。

よくあるご質問

Q. 1個から成膜は可能ですか?

可能です。

Q. 内径部への成膜は可能ですか?

基本的には苦手とお考え下さい。

Q. 見積に必要な情報は何ですか?

成膜ご依頼品の図面(又はポンチ絵)、材質の情報、個数が分かれば御見積可能です。

※図面中に成膜が必要な部位をご記入下さい。

Q. どのくらいのサイズまで成膜可能ですか?

膜種によりますが、最大φ700×1100(mm)まで可能です。

Q. 表面に汚れや傷があっても成膜可能ですか?

表面に錆や汚れ等があると、成膜不具合の要因となります。また、表面の傷や荒れは成膜後も埋まることなくそのままの状態となります。

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